実習付き研修のご案内～ナノファブスクエア～（KISTEC）
ナノファブスクエアin海老名について慶應義塾大学、早稲田大学、東京工業大学、東京大学からなる4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアムでは、 川崎市、KISTECと連携し、産学連携による新しい技術や産業の創出を図るため、新川崎・創造のもりのナノ・マイクロ産学官共同研究施設『NANOBIC』において、4大学の先端機器によるナノファブスクエアを開催しています。
ナノファブスクエアin海老名では、4回の講習・実習会を開催し、「首都圏地下鉄路線網シリコンマイクロ流路」をモデルチップとし、シリコン酸化、シリコン異方性エッチング、ナノパターン形成および陽極接合について学ぶことができます。
第３回シリコン酸化
シリコン基板に熱酸化法による薄膜を形成し、フォトリソグラフィにより、マイクロ流路パターンを形成します。
第４回シリコン異方性エッチング
シリコン基板上に、熱酸化膜をマスクとして、異方性ウェットエッチングによるマイクロ流路パターンを形成します。
第５回ナノパターン形成
シリコン基板に塗布されたレジストに、電子線描画によりハーフピッチ200nmのパターンを形成します。
第６回陽極接合
ガラスとマイクロ流路を形成したシリコン基板を陽極接合する講義・実習を行います。陽極接合は、シリコンMEMSチップ実装の封止に使用される技術です。
開催日時：第3回 令和6年6月 6日（木）13：30～16：30
第4回 令和6年6月13日（木）13：30～16：30
第5回 令和6年6月20日（木）13：30～16：30
第6回 令和6年6月27日（木）13：30～16：30
開催方法：対面開催（KISTEC海老名本部）
受 講 料：各回13,000円（税込、テキスト代込）
定 員：各回5名（先着順）
詳細申込：https://www.kistec.jp/learn/nanotech/
▼お問合せ先
地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所（KISTEC）人材育成部 教育研修課 産業人材研修グループ
TEL：046-236-1500 E-mail：sm_sangyoujinzai[at]kistec.jp